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中国批准用于芯片生产的新型光刻机



  成都11月30日电据中国开发商称,中国已经批准了一种能够生产22纳米芯片的高分辨率光刻机。

  该机器由中国科学院光学与电子学研究所开发。采用双曝光技术,预计未来将生产10纳米芯片。

  光刻机对芯片生产至关重要,中国长期以来在这一领域一直落后。

  据该机副总设计师胡松介绍,新设备采用纳米光刻技术,拥有完全自主知识产权。

  胡说,它是生产芯片,超材料和第三代光学器件的重要工具。

  与这种光刻机相关的一些设备已经应用于由上海航天技术研究院和中国电子科技大学等大学和研究机构进行的许多重要研究项目。Enditem




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